エピウェハー測定

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    電気通信とディスプレイ技術の両方の分野で電気光学部品の使用が今や一般的となったことにより、エピタキシは部品製造の重要技術となりつつあります。エピタキシとは、単結晶の基板表面に半導体材料の薄い膜を生成させる処理です。各々の結晶層はエピタキシャル層と呼ばれます。

     

    測定技術

    表面粗さ
    表面のテクスチャは、エピタキシアル半導体の品質を規定する、ユーザーにとってもメーカーにとっても大変に重要なパラメーターです。ウェハー上により細かい回路の印刷を要求する現在の動向により、表面粗さの許容範囲はますます厳しくなっています。エピウェハーの表面仕上げはナノメーター単位で規定されるため、その測定には非常に低ノイズで高解像度のシステムが要求されます。

     

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